OBLF火花发射光谱仪QSG 750-II

QSG 750-II单基体或多基体模型非常适合要求尽可能低的检测限、高的重现性和有关分析物的额外冶金信息的所有应用。应用范围从钢铁厂或其他冶炼厂等初级生产商到金属加工公司，再到研究机构和大学。

QSG 750-II 与 QSN 750-II主要区别在于数据记录系统，该系统基于 OBLF 开发的 GISS 技术（Gated Integration of Single Sparks）。在尺寸相同的情况下，它还配备了久经考验的硬件组件，例如温度稳定的 750 毫米真空光学元件、具有可自由定义参数的门控数字源 (GDS) 技术以及获得自清洁火花架。排气过滤器可确保清除消耗的氩气。所有关键设备部件的轻松可访问性简化了需要由用户执行的服务任务。

• 多矩阵应用
• 多达 64 个 PMT 元件通道
• GDS III 火花发生器
• 真空系统
• 自清洁火花架
• 适用于自动化系统
• 门控集成 (GISS)
• 包含分析 (GISS)
• 双电极系统，可选 ULB
• 自动电极清洁作为选项

• 光学

-Paschen-Runge光谱仪

-罗兰圆直径：750 mm

-可用波长：110-770nm

-光学和测量数据采集，可在±0.1°C温度下实现好的长期稳定性

-计算机控制的自动分析

-Coma校正光隙

-针对不同波长范围优化的光电倍增类型

• 真空系统

-铸造轻金属真空室

-免维护旋转叶片泵

-集成在外壳中的真空泵

-泵运行时间：<5%

-防止油反冲和油扩散

-自动压力控制和压力稳定

• 火花激发

-采用功率门技术的门控数字源（GDS）

-免维护

-射频：高达1 kHz

-单极中压放电

-天线和集成的参数可以单独参数化

-射频和放电特性可自由配置

-点火电压：20kV

• 尺寸和重量

-宽度：约104厘米

-高度：约130厘米

-深度：约90厘米

-重量：约460 kg

• 电气连接

-230V，50/60赫兹，1.5千伏安

-待机模式下约500 W

• 环境条件

-允许工作温度：10–40ºC

• 产地：德国

尺寸和重量

宽度：104 cm

高度：130 cm

深度：90 cm

重量：约 460 kg