PACE TECHNOLOGIES振动抛光机GIGA-S

GIGA-S振动抛光机配备了一个直径为9或12英寸的快速释放可互换碗选项，GIGA Soffer具有处理小型和大型标本的灵活性，使其适用于广泛的应用。两件式无泄漏碗设计可确保无忧操作，而高性能PZT电机可提供好的动力，实现高效准确的抛光。通过频率和电压控制，以及速度和时间调整，用户可以完全控制抛光过程，以在各种材料上实现所需的结果。凭借其具有竞争力的价格，GIGA-S将好的性能与经济可行性相结合。无论您是抛光金属、陶瓷还是复合材料，GIGA-S都是轻松准确地实现好的结果的解决方案。

使用GIGA-S振动抛光机进行CMP（化学机械抛光）抛光。常见的CMP抛光浆料含有胶体二氧化硅；然而，我们发现添加多晶氧化铝可以制成更有效的抛光浆料，提高抛光速率，并显著降低与胶体二氧化硅抛光相关的抛光起伏。

GIGA-S振动抛光机专为难抛光材料的温和抛光而设计，特别是用于EBSD（电子背散射衍射）样品制备。抛光是通过调节电压来改变转速来实现的。

• 抛光碗尺寸：可更换直径为9或12英寸
• 驱动机构：先进的PZT电机
• 结构：铝铸件、SMC（注塑）盖和丙烯酸罩
• 电气规格：110V或220V 50/60 Hz
• 频率：40-200Hz
• max电机电压：220 VDC
• 重量：135磅（62公斤）
• 夹具：GIGA夹具
• 尺寸（宽x深x高）（发动机罩可以拆卸）

- 机罩关闭：17 x 20 x 16.5英寸（432 x 508 x 420毫米）

- 机罩开启：17 x 25.5 x 29.5英寸（432 x 648 x 750毫米）

• 产地：美国

• 半导体
• 玻璃
• 陶瓷
• 矿物
• 复合材料
• 软金属
• 塑料
• 难熔金属
• 一般金属