ANNEALSYS快速热化学气相沉积系统MC-050

带灯加热的直接液体喷射汽化器使 MC-050成为一种独特的机器，具有像集群工具一样的多工艺能力，但在一个单一的工艺室内。

Annealsys MC-050系统是为满足研发单位的要求而开发的2英寸DLI-CVD/DLI-ALD反应器。

红外灯炉与直接液体注入蒸发器相结合，在同一工艺室内提供独特的多工艺能力：CVD、ALD、MOCVD、RTP 和 RTCVD。

直接液体注入 (DLI) 蒸发器可控制前体流量，并允许使用低蒸气压和稀释的化学前体。与旁通阀相关的前体蒸汽流的快速切换为纳米层压板的沉积提供了界面控制。

MC-050是使用广泛的固体和液体有机金属前体开发新材料和纳米层压材料的机器。

MC-050 可以使用广泛的有机金属前体进行化学气相沉积和原子层沉积工艺，同时提供原位退火功能。

• 气体混合能力与质量流量控制器
• 6个汽化器
• 手套箱装载选项
• 可选择高真空能力

MC-050可配备6个直接液体注入蒸发器和两个用于高蒸气压前体的起泡器。

• 高温计温度控制
• 粗真空泵、涡轮泵
• 手套箱接口和手套箱
• 远程等离子
• 臭氧发生器

• 基板尺寸：直径可达2英寸
• 温度范围：室温至 1100°C
• 电压：3x400V+N+Gr/3x220V+Gr
• 功率：21千瓦
• 水：2至4巴，压降1巴，8升/分钟
• 压缩空气：6巴（阀门驱动）
• 真空范围：大气压至 10-3 Torr
• 产地：法国

MC-050提供了广泛的新材料开发能力，包括单金属氧化物和多金属氧化物以及过渡金属●二硫化物 (TMD) 和其他二维材料。

• 简单和多金属氧化物
• 金属、氮化物和合金
• III-V，宽带隙半导体
• 二维材料：石墨烯、氮化硼、MoS2、WS2、MoSe2、WSe2 ...
• ETC