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microworksX射线干涉仪Talint EDU

产品介绍

Talint EDU是X射线Talbot Lau干涉仪的一种巧妙简化形式,包括所有必要的硬件,以正确设置和微调干涉仪,并应用相位步进程序,以获得三种成像模式:吸收、相位对比度和暗场对比度。

硬件的设计使得,在按照我们的说明组装(预装)套件后,莫尔条纹将很容易在您的探测器上看到。莫尔条纹图案的进一步微调可以通过使用G1和G2支架中的微米螺钉使光栅绕光轴进行角旋转,以直接的方式进行。

性能特点

  • 由基板定义,基板是M6的试验板,间距为25mm
  • 光栅是使用X射线LIGA技术制造的,该技术确保了高精度和高的高宽比(纵横比)
  • 通过定位销固定;对称设置
  • 两个光栅都可以通过调节测微螺钉绕光轴旋转
  • 包含控制器

技术参数

产地:德国

长度:60厘米

宽度:15厘米

高度:20厘米

光栅开放区域

G0:15毫米

G1:70毫米

G2:70毫米

干涉仪的微调:仅调整G1和G2绕光轴的旋转角度

样品放置:简单的旋转台,可在光轴内外摆动样品

相位步进:闭环压电级。30nm分辨率

边缘能见度:通常>15%

G0和G2的占空比:0.55

G0和G2的基板:400µm石墨

G1占空比:0.5

G1基板:200µm硅


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